Der erfahrene Ethereum-Entwickler und Gründungspartner des Entwicklungsstudios Prysmatic Labs, Terence Tsao, hat die möglichen Gründe für ein ungewöhnliches Slashing-Ereignis im Proof-of-Stake (PoS) Mechanismus von Ethereum (ETH) enthüllt. 20 ETH-Validatoren wurden innerhalb von nur drei Stunden bestraft.
Der Slash-Hammer trifft 20 Validatoren auf Ethereum
Widmen wir uns der wichtigsten Frage zuerst: Was ist überhaupt Slashing?
Slashing bedeutet, dass ein Teil des Stakes des Validators gestrichen wird. Im schlimmsten Fall kann es sogar den gesamten Stake betreffen. Es ist also eine Abstrafung, wobei das Slashing natürlich nur Validatoren betreffen sollte, die sich absichtlich falsch verhalten. Seit dem Wochenende kursieren die Ethereum News, dass ein solches Slashing in ungewohnt hohem Maß in nur kurzer Zeit stattgefunden haben soll. Laut einem Tweet von Herrn Tsao hat das Netzwerk am Wochenende insgesamt 20 Validatoren innerhalb von nur drei Stunden abgestraft.
RIP. 20 validators slashed over the last 3 hours due to attester equivocation. Can't find much info with the validator indices and deposit addresses. My guess is duplicated setups / forgot doppelganger detection pic.twitter.com/TJupDCle8j
— terence.eth (@terencechain) September 23, 2022
Da die Adressen der Validatoren und die Hinterlegungsdaten der Indizes sind nicht veröffentlicht. Es ist also unklar, was der Grund der Strafe war. Auch Herr Tsao räumte daher ein, dass die wahren Gründe für die Probleme noch im Dunkeln liegen. Seiner Meinung nach sind diese Slashing-Ereignisse auf duplizierte Setups und Fehler bei der Erkennung von Doppelgängern zurückzuführen. In der Ethereum 2.0 Dokumentation steht diesbezüglich, dass der “Doppelgänger-Schutz” ein kritischer Mechanismus ist. Dort heißt es:
Wenn derselbe Validator zweimal ausgeführt wird, führt dies unweigerlich zu einem Slashing
Ebenfalls bekannt ist, dass sich mit jedem kommenden Update auf Ethereum die Strafe erhöht wird. Validatoren, die sich nicht an die Regeln halten, können sich also warm anziehen.
